氧化鎂次要采用的原料是菱鎂礦石，氧化鎂次要需求的設備有輕燒反射窯，5R雷蒙機，菱鎂礦石的次要作用是可以加工成氧化鎂，輕燒反射窯次要是起到的作用可以把菱鎂礦石經過低溫800℃以上煅燒而成，這種狀況出來的商品屬于半成品，5R雷蒙機次要起到的作用可以把半成品加工成粉末狀氧化鎂，粉末狀氧化鎂被稱爲細度氧化鎂，氧化鎂次要細度有120目，150目，180目，200目等。
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